ASML ще достави 35 EUV системи през 2020 г.

В раздел: Новини от на 23.01.2020, 1,298 показвания

 

При обявяване на приходите си за 2019 г., холандската компания ASML, която в момента е най-големият доставчик на литографско оборудване за производството на полупроводници в света, акцентира върху постиженията си, както и перспективите, които я очакват в близко бъдеще. В своя доклад за приходите за 2019 г. ASML прогнозира доставка до 35 EUV сканиращи системи през 2020 г. Това може да се каже, че само за себе си не е прогноза, а по-скоро известен факт, тъй като фабриките поръчват своето оборудване месеци преди да започнат да го използват за производство. След като ASML вече достави 26 скенера за EUV литография през 2019 г., планът за следващите години е да увеличи доставките на EUV системите с цели 40% годишно. С намеренията си да достави между 45 и 50 EUV системи през 2021 г., AMSL вижда сериозен приход в следващите години. Това, което стимулира търсенето на тези машини, е използването на все по-малки възли за производство на полупроводници. Дори при 7 nm, литографското предизвикателството става реалност, а използването на EUV става необходимост.
Всъщност усвояването на EUV литографията от индустрията е в разгара си. Samsung вече я използва, TSMC се подготвя да започне да доставя 7nm продукти, базирани на EUV през следващите месеци. Intel обаче може да се счита за засегнат в тази ситуация, тъй като предвижда да въведе EUV литография едва в края на 2021 г. като част от развитието на 7 nm технологичния си процес, но пък похарчи и най-много пари като целева помощ за ASML през 2012 г. Спомнете си, че тогава Samsung, TSMC и Intel изкупиха повече от 20% от акциите на ASML, така че да може компанията да получи свежи финансови постъпленията за разработването на EUV литографско оборудване. Така, че по “ирония на съдбата”, на този етап от финансовата инвестиция на Intel за разработването на EUV оборудване, може да се възползват всички други клиенти на ASML, но не и самите те.

Източник: Techpowerup 






Етикети: , , , ,



Коментари: